7纳米技术要白菜化了。国产EDA提供商华大九天公开三重版...

三地鼎盛

7纳米技术要白菜化了。国产EDA提供商华大九天公开三重版图曝光技术。当年台积电和三星在7到10纳米芯片代工完成了对英特尔的反超，该技术就是其关键技术之一。
面向三重版图曝光约束的详细布线算法

梁小宇1孙若涵1徐宁1张亚东2

1. 武汉理工大学信息工程学院2. 北京华大九天科技股份有限公司

摘要：在进一步缩小特征尺寸的问题上， 三重版图曝光技术(triple patterning lithography， TPL)发挥着重要的作?. 针对TPL中的版图分解问题， 提出了一种基于TPL约束的详细布线算法. 将版图分解问题转化为满足同色间距约束和最小间距约束的详细布线问题， 使用网格编码的方法来满足2种间距约束; 利用与两种间距约束相结合的Hannan网格来提升布线资源的利用率以及布线的速度; 结合多源迪杰斯特拉算法进行多端线网的最短路径搜索; 最后将布线结果进行版图分解， 实现最小化冲突数量和缝合点数量的目标. 算法在2.20 GHz CPU和32 GB内存的Ubuntu 20.04环境下运行， 使用2018年ISPD详细布线比赛的测试集. 实验结果表明， 与普通详细布线相比， 可降低约60%的冲突数量以及70%的缝合点数量.